英特尔谈 Intel 14A 可能使用 High NA EUV：两种光刻技术设计规则兼容

他表示，英特尔仍有在14A制程的EUV光刻步骤中仅使用传统LowNA或部分导入HighNA的选项。而这两种方案在设计规则上是兼容的，这意味着无论英特尔选择哪条技术路径，都不会对客户造成影响。英特尔已在其俄勒冈州研发晶圆厂安装了第二套ASML提供的HighNAEUV光刻系统，表现符合预期。英特尔的HighNAEUV图案化技术开发正稳步向量产迈进，同时已掌握了HighNAEUV在18A、14A级节点的数据。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。