ASML CEO：预计 High NA EUV 光刻机 2027~2028 年用于先进制程大规模量产

感谢亚汇网网友补药吖、目前在导入新一代图案化技术上最积极的是英特尔代工，其支持HighNAEUV的Intel14A节点将在2027年正式推出。Fouquet表示，HighNAEUV光刻机目前正由英特尔等客户测试，结果显示新设备的成像和分辨率表现良好，该企业2026年的任务之一是与客户合作将设备的停机时间最小化。Fouquet还提到，ASML对未来10~15年的大致技术路线已有一定的概念。该企业已启动下一代HyperNAEUV的研究，为本世纪30年代的投运打下基础。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。